《半导体技术》学术论文发表

　　《半导体技术》期刊简介：

　　《半导体技术》以严谨风格，权威著述，在业内深孚众望，享誉中外，对我国半导体事业的发展发挥了积极的作用。"向读者提供更好资讯，为客户开拓更大市场，提供技术成果展示、转化和技术交流的平台，达到了促进我国半导体技术不断发展的目的"是《半导体技术》的追求，本刊一如既往地坚持客户至上，服务第一，竭诚向读者提供多元化的信息。趋势与展望：全面阐述半导体技术与应用的发展趋势;专题报道：每期就设计、生产、应用等企业关注的热门技术及焦点论题，进行有深度、广度的全面剖析;器件制造与应用：半导体器件的设计和制造及在各种领域中的应用;工艺技术与材料：介绍最新的半导体技术制作工艺和该领域用的新材料;集成电路设计与开发：各种IC的设计和应用技术、设计工具及发展动向;封装、测试与设备：介绍器件、芯片、电路的测试、设备和封装的前沿技术;MEMS技术：现代管理：半导体代工厂、洁净厂房、半导体用水及气体、化学品，等管理技术;综合新闻：及时发布世界各地半导体最新产品及技术信息。《半导体技术》的稿件来源于全国各主要研究机构、大专院校和企事业单位等。

　　办刊宗旨：

　　《半导体技术》(月刊)创刊于1976年，是由信息产业部主管，中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办，业内权威的国家一级刊物之一。它以严谨风格，权威著述，在业内深孚众望，享誉中外，对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯，为客户开拓更大市场”。荣获中国科技论文统计用刊。

　　期刊栏目：

　　趋势与展望、 专题报道、 应用长廊、设计与开发、支撑技术、 新品推荐

　　半导体技术杂志论文

　　硅溶胶抛光液对硅单晶抛光片表面质量的影响

　　期刊收录：

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　　半导体技术杂志社征稿要求：

　　1、文稿应资料可靠、数据准确、具有创造性、科学性、实用性。应立论新颖、论据充分、数据可靠，文责自负(严禁抄袭)，文字要精炼。

　　2、姓名在文题下按序排列，排列应在投稿时确定。作者姓名、单位、详细地址及邮政编码务必写清楚，多作者稿署名时须征得其他作者同意，排好先后次序，接录稿通知后不再改动。

　　3、文章要求在2000-2400字符，格式一般要包括：题目、作者及单位、邮编、内容摘要、关键词、正文、参考文献等。文章标题字符要求在20字以内。

　　4、文章中的图表应具有典型性，尽量少而精，表格使用三线表;图要使用黑线图，绘出的线条要光滑、流畅、粗细均匀;计量单位请以近期国务院颁布的《中华人民共和国法定计量单位》为准，不得采用非法定计量单位。

　　5、为缩短刊出周期和减少错误，来稿一律使用word格式，并请详细注明本人详细联系方式。

　　6、编辑部对来稿有删修权，不同意删修的稿件请在来稿中声明。我刊同时被国内多家学术期刊数据库收录，不同意收录的稿件，请在来稿中声明。